Processing fluid supply device, substrate processing device, processing fluid supply method, substrate processing method, processing fluid processing device, and processing fluid processing method
WO2014050941
Art A1
3. April 2014
Anmelder: SCREEN Holdings Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014050941
- Aktenzeichen
- EP13841745
- Anmeldetag
- 26. September 2013
- Veröffentlichung
- 3. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B01J4/00B05C11/08B05C11/10B08B3/02G21K5/00G21K5/02G21K5/10H05F1/00H05F3/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN Holdings Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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