Cobalt precursors for low temperature ald or cvd of cobalt-based thin films

WO2014052316 Art A1 3. April 2014

Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014052316
Aktenzeichen
EP13841075
Anmeldetag
24. September 2013
Veröffentlichung
3. April 2014
Rechtsraum
WO
IPC
C23C16/06C23C16/44C23C16/448
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Entegris, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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