Cobalt precursors for low temperature ald or cvd of cobalt-based thin films
WO2014052316
Art A1
3. April 2014
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014052316
- Aktenzeichen
- EP13841075
- Anmeldetag
- 24. September 2013
- Veröffentlichung
- 3. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/06C23C16/44C23C16/448
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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