Position measuring apparatus, position measuring method, lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2014053334 Art A1 10. April 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014053334
Aktenzeichen: EP13766024
Anmeldetag: 20. September 2013
Veröffentlichung: 10. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von