Zinc oxide-based sintered compact, zinc oxide-based sputtering target consisting of this sintered compact, and zinc oxide-based thin film obtained by sputtering this target

WO2014054361 Art A1 10. April 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014054361
Aktenzeichen: EP13843371
Anmeldetag: 2. September 2013
Veröffentlichung: 10. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/453C22C1/05C22C29/12C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von