Negative Photosensitive Resin Composition
WO2014054455
Art A1
10. April 2014
Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014054455
- Aktenzeichen
- EP13844433
- Anmeldetag
- 24. September 2013
- Veröffentlichung
- 10. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/033G02B5/20G03F7/004H01L51/50H05B33/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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