Target for magnetron sputtering and manufacturing method therefor
WO2014054502
Art A1
10. April 2014
Anmelder: Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014054502
- Aktenzeichen
- EP13843519
- Anmeldetag
- 26. September 2013
- Veröffentlichung
- 10. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34B22F3/00B22F3/15B22F9/08C22C1/05C22C5/04C22C19/07C22C27/06G11B5/851
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tanaka Kikinzoku Kogyo
Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.
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