Substrate treatment method, computer storage medium, and substrate treatment system

WO2014054570 Art A1 10. April 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014054570
Aktenzeichen: EP13843843
Anmeldetag: 30. September 2013
Veröffentlichung: 10. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: B05D3/02B05C9/14B05D3/10B05D7/24H01L21/027H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von