Semiconductor substrate cleaning method and cleaning system
WO2014054576
Art A1
10. April 2014
Anmelder: Kurita Water Industries Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014054576
- Aktenzeichen
- EP13843673
- Anmeldetag
- 30. September 2013
- Veröffentlichung
- 10. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304H01L21/28H01L21/3205H01L21/768H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kurita Water Industries Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kurita Water Industries
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Wasseraufbereitungstechnologien und Chemikalien für industrielle Anwendungen.
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