Process gas generation for cleaning of substrates

WO2014055218 Art A1 10. April 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tokyo Electron U.s. Holdings, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014055218
Aktenzeichen: EP13770753
Anmeldetag: 13. September 2013
Veröffentlichung: 10. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: B08B7/00H01L21/02H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Tokyo Electron U.s. Holdings, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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