Harsh Environment Optical Element Protection

WO2014055308 Art A1 10. April 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014055308
Aktenzeichen
EP13843116
Anmeldetag
25. September 2013
Veröffentlichung
10. April 2014
Rechtsraum
WO
IPC
H05G2/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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