Mark position measuring apparatus and method, lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2014056708 Art A2 17. April 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014056708
Aktenzeichen: EP13766051
Anmeldetag: 23. September 2013
Veröffentlichung: 17. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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