Method for manufacturing electron source
WO2014057570
Art A1
17. April 2014
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014057570
- Aktenzeichen
- EP12886458
- Anmeldetag
- 12. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 17. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J9/02H01J1/16H01J1/30H01J37/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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