Method for producing silicon epitaxial wafer and solid-state image-pickup element using same
WO2014057741
Art A1
17. April 2014
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014057741
- Aktenzeichen
- EP13845887
- Anmeldetag
- 29. August 2013
- Veröffentlichung
- 17. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/205H01L21/322H01L21/324H01L27/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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