Thin-film formation device and thin-film formation method

WO2014061451 Art A1 24. April 2014

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014061451
Aktenzeichen: EP13847181
Anmeldetag: 2. Oktober 2013
Veröffentlichung: 24. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/368B05D3/12G02F1/13H01L21/336H01L29/786H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von