Method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

WO2014061643 Art A1 24. April 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014061643
Aktenzeichen: EP13847999
Anmeldetag: 15. Oktober 2013
Veröffentlichung: 24. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/768H01L23/522H01L25/065H01L25/07H01L25/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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