Method for removing foreign substances in charged particle beam device, and charged particle beam device

WO2014061738 Art A1 24. April 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014061738
Aktenzeichen: EP13847699
Anmeldetag: 17. Oktober 2013
Veröffentlichung: 24. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28H01J37/141

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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