Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source

WO2014062351 Art A2 24. April 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014062351
Aktenzeichen: EP13848016
Anmeldetag: 25. September 2013
Veröffentlichung: 24. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: F16L9/14C23C14/34C23C14/35H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von