Projection exposure system for euv lithography and method for operating the projection exposure system

WO2014064224 Art A1 1. Mai 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014064224
Aktenzeichen: EP13783327
Anmeldetag: 24. Oktober 2013
Veröffentlichung: 1. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/22G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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