Etchant, etching method using same, and semiconductor-element production method

WO2014065138 Art A1 1. Mai 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014065138
Aktenzeichen: EP13849393
Anmeldetag: 11. Oktober 2013
Veröffentlichung: 1. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/308H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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