Photosensitive transfer material, pattern formation method, and etching method

WO2014065220 Art A1 1. Mai 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014065220
Aktenzeichen: EP13848704
Anmeldetag: 21. Oktober 2013
Veröffentlichung: 1. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/22C08F20/26C08G8/36G03F7/039G03F7/11H01L51/50H05B33/22

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von