Charged particle beam device and overlay misalignment measurement method

WO2014065311 Art A1 1. Mai 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014065311
Aktenzeichen: EP13848287
Anmeldetag: 23. Oktober 2013
Veröffentlichung: 1. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/244H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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