Tungsten sintered body sputtering target and tungsten film formed using said target

WO2014069328 Art A1 8. Mai 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014069328
Aktenzeichen: EP13850554
Anmeldetag: 24. Oktober 2013
Veröffentlichung: 8. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/14B22F3/15C22C1/04C23C14/14H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von