Composition for resist underlayer film, and method for forming pattern using said composition for resist underlayer film

WO2014069718 Art A1 8. Mai 2014

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014069718
Aktenzeichen: EP13852256
Anmeldetag: 9. Januar 2013
Veröffentlichung: 8. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/09G03F7/004G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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