Substrate cooling member, substrate processing device, and substrate processing method

WO2014073460 Art A1 15. Mai 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014073460
Aktenzeichen: EP13852640
Anmeldetag: 25. Oktober 2013
Veröffentlichung: 15. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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