Cu-ga alloy sputtering target, and method for producing same

WO2014077110 Art A1 22. Mai 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014077110
Aktenzeichen: EP13854454
Anmeldetag: 28. Oktober 2013
Veröffentlichung: 22. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22D11/00B22D11/20B22D11/22B22D27/04C22C1/02C22C9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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