Photosensitive transfer material, substrate having photosensitive low refractive index transfer layer, method for producing photosensitive low refractive index transfer layer, method for forming permanent film, optical device and method for manufacturing optical device

WO2014077228 Art A1 22. Mai 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014077228
Aktenzeichen: EP13855840
Anmeldetag: 12. November 2013
Veröffentlichung: 22. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: B32B27/18B32B27/30C08F290/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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