Method for cleaning semiconductor substrate and method for producing semiconductor substrate

WO2014077370 Art A1 22. Mai 2014

Anmelder: Lion Corporation, Saito Optical Science Manufacturing Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014077370
Aktenzeichen: EP13855109
Anmeldetag: 15. November 2013
Veröffentlichung: 22. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D3/18C11D3/20C11D7/06C11D7/08C11D7/18C11D7/26C11D7/36C11D17/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Lion Corporation
Saito Optical Science Manufacturing Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Lion Corporation

Japanischer Hersteller von Konsumgütern wie Waschmitteln, Kosmetik und Mundhygieneprodukten mit Sitz in Tokio.

574 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen