Mask blank, transfer mask, method for producing mask blank, method for producing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2014080840 Art A1 30. Mai 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014080840
Aktenzeichen: EP13856233
Anmeldetag: 15. November 2013
Veröffentlichung: 30. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/50C03C17/34G03F1/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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