Active ray-sensitive or radioactive ray-sensitive resin composition, pattern-forming method, resist film, method for manufacturing electronic device and electronic device

WO2014080849 Art A1 30. Mai 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014080849
Aktenzeichen: EP13857561
Anmeldetag: 15. November 2013
Veröffentlichung: 30. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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