Photosensitive resin composition, resist laminate, and articles obtained by curing same (3)

WO2014080971 Art A1 30. Mai 2014

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014080971
Aktenzeichen: EP13856382
Anmeldetag: 21. November 2013
Veröffentlichung: 30. Mai 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004C08G59/62

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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