Method and apparatus for determining lithographic quality of a structure

WO2014082813 Art A2 5. Juni 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014082813
Aktenzeichen: EP13783938
Anmeldetag: 30. Oktober 2013
Veröffentlichung: 5. Juni 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/47G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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