Substrate treatment mechanism and small-form-factor manufacturing device using same

WO2014087761 Art A1 12. Juni 2014

Anmelder: Litho Tech Japan Corporation, National Institute Of Advanced Industrial Science, Pulsa Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014087761
Aktenzeichen: EP13861114
Anmeldetag: 29. Oktober 2013
Veröffentlichung: 12. Juni 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Litho Tech Japan Corporation
National Institute Of Advanced Industrial Science
Pulsa Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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