Hash fast marching method for simulation of surface evolution in photoresist etching process
WO2014090039
Art A1
19. Juni 2014
Anmelder: Southeast University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014090039
- Aktenzeichen
- EP13863588
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2013
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Southeast University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Southeast University
Chinesische Universität mit Sitz in Nanjing, Schwerpunkt auf Ingenieur- und Technikwissenschaften.
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