Gasmischvorrichtung

WO2014090925 Art A1 19. Juni 2014

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014090925
Aktenzeichen: EP13831931
Anmeldetag: 12. Dezember 2013
Veröffentlichung: 19. Juni 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455B01F5/00B01F3/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von