Composition, laminate, method for producing laminate, transistor, and method for producing transistor

WO2014092019 Art A1 19. Juni 2014

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014092019
Aktenzeichen: EP13863208
Anmeldetag: 6. Dezember 2013
Veröffentlichung: 19. Juni 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/20B32B27/16C07D303/27C08G59/62C08G59/68C09D5/25C09D163/00H01L21/312H01L21/336H01L29/786H01L51/05H01L51/30H01L51/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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