Siloxane resin remover, siloxane resin removal method using siloxane resin remover, semiconductor substrate product and semiconductor element manufacturing method

WO2014092022 Art A1 19. Juni 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014092022
Aktenzeichen: EP13863580
Anmeldetag: 6. Dezember 2013
Veröffentlichung: 19. Juni 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C09J5/00C09J163/00C09J183/04C11D3/20C11D3/26C11D3/43C11D7/26C11D7/32C11D7/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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