Sintered Sputtering Target
WO2014097911
Art A1
26. Juni 2014
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014097911
- Aktenzeichen
- EP13864765
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2013
- Veröffentlichung
- 26. Juni 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C22C19/07C22C32/00B22F3/00B22F3/14B22F3/15C22C1/05
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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