Hollow organic silica structure and method for producing same

WO2014098107 Art A1 26. Juni 2014

Anmelder: The University of Tokyo, Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014098107
Aktenzeichen: EP13866231
Anmeldetag: 18. Dezember 2013
Veröffentlichung: 26. Juni 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08J3/12C08G77/50

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: The University of Tokyo
Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

2.129 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

2.124 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von