Anisotropic conductive film, and semiconductor device using same

WO2014098329 Art A1 26. Juni 2014

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014098329
Aktenzeichen: EP13864141
Anmeldetag: 30. Mai 2013
Veröffentlichung: 26. Juni 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01B5/00H01B1/20H01B13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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