Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film formed using said composition, method for forming pattern using said composition, process for producing electronic device, and electronic device

WO2014103644 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014103644
Aktenzeichen: EP13868659
Anmeldetag: 4. Dezember 2013
Veröffentlichung: 3. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D217/08C07D279/12C07D327/06C07D333/46C09K3/00G03F7/038G03F7/039H01L21/027C07C309/06C07C309/12C07C309/17C07C381/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von