Mask blank substrate processing device, mask blank substrate processing method, mask blank substrate fabrication method, mask blank fabrication method, and transfer mask fabrication method

WO2014104009 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014104009
Aktenzeichen: EP13867513
Anmeldetag: 24. Dezember 2013
Veröffentlichung: 3. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/60C03C23/00G03F1/24G03F1/82G03F7/20H01L21/027H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von