Expansion method, method for manufacturing semiconductor devices, and semiconductor device

WO2014104189 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014104189
Aktenzeichen
EP13867696
Anmeldetag
26. Dezember 2013
Veröffentlichung
3. Juli 2014
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/301
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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