Substrate for mask blank, substrate with multilayer reflective film, reflective type mask blank, reflective type mask, manufacturing method of substrate for mask blank and manufacturing method of substrate with multilayer reflective film as well as manufacturing method of semiconductor device

WO2014104276 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014104276
Aktenzeichen: EP13867778
Anmeldetag: 27. Dezember 2013
Veröffentlichung: 3. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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