Modified hydrogenated polysiloxazane, composition comprising same for forming silica-based insulation layer, method for preparing composition for forming silica-based insulation layer, silica-based insulation layer, and method for preparing silica-based insulation layer

WO2014104510 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014104510
Aktenzeichen: EP13868474
Anmeldetag: 15. Juli 2013
Veröffentlichung: 3. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/38C08G77/26C08L83/08H01B3/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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