Composition for forming silica-based insulating layer, method for preparing composition for forming silica-based insulating layer, silica-based insulating layer, and method for manufacturing silica-based insulating layer

WO2014104528 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014104528
Aktenzeichen
EP13866888
Anmeldetag
16. August 2013
Veröffentlichung
3. Juli 2014
Rechtsraum
WO
IPC
H01B3/46C08L83/08
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Cheil Industries Inc.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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