Monomer for hardmask composition, hardmask composition including said monomer, and method for forming pattern using said hardmask composition

WO2014104544 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014104544
Aktenzeichen: EP13869572
Anmeldetag: 2. Oktober 2013
Veröffentlichung: 3. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00C07C63/15G03F7/26C07C15/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

596 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von