Method for treating defects at junction area of semiconductor device using germanium
WO2014104552
Art A1
3. Juli 2014
Anmelder: Korea Advanced Nano Fab Center, Research & Business Foundation Sungkyunkwan University 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014104552
- Aktenzeichen
- EP13868394
- Anmeldetag
- 24. Oktober 2013
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/26H01L21/324
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Korea Advanced Nano Fab Center
Research & Business Foundation Sungkyunkwan University - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Research & Business Foundation Sungkyunkwan University
Die Research & Business Foundation Sungkyunkwan University ist die Technologietransfer- und Patentverwertungsstelle der südkoreanischen Sungkyunkwan-Universität. Das Portfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Nachrichtentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Mess- und Softwaretechnik. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2011 bis 2025.
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