Gas barrier film, and method for manufacturing same

WO2014104669 Art A1 3. Juli 2014

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014104669
Aktenzeichen: EP13867765
Anmeldetag: 20. Dezember 2013
Veröffentlichung: 3. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: B32B9/00B32B15/08B32B27/04G09F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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