Composition, laminate, method for producing laminate, transistor, and method for producing transistor

WO2014106955 Art A1 10. Juli 2014

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014106955
Aktenzeichen: EP14735183
Anmeldetag: 7. Januar 2014
Veröffentlichung: 10. Juli 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/20B32B27/16C08G59/62C08G59/68C08L63/00G03F7/075H01L21/28H01L21/312H01L21/336H01L21/768H01L23/532H01L29/417H01L29/423H01L29/49H01L29/786H01L51/05H01L51/30

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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