Method and apparatus for depositing droplets onto a substrate
WO2014108323
Art A1
17. Juli 2014
Anmelder: ETH Zurich 🇨🇭
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014108323
- Aktenzeichen
- EP14700130
- Anmeldetag
- 6. Januar 2014
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01J19/00G01N33/68B01L3/02B01L3/00G01N35/00G01N30/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ETH Zurich
- Land
- 🇨🇭 Schweiz
🇨🇭
ETH Zürich
Eidgenössische Technische Hochschule Zürich, Schweizer Hochschule mit Forschungsschwerpunkten in Natur-, Ingenieur- und Materialwissenschaften.
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Vertreten von
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